| Processo: | 98/07001-0 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Doutorado |
| Vigência (Início): | 01 de março de 1999 |
| Vigência (Término): | 28 de fevereiro de 2003 |
| Área do conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos |
| Pesquisador responsável: | Jacobus Willibrordus Swart |
| Beneficiário: | Claudia Reyes Betanzo |
| Instituição Sede: | Centro de Componentes Semicondutores (CCS). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil |
| Assunto(s): | Corrosão CMOS Litografia (processos de impressão) |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Corrosao Por Plasma | Litografia Por Eletrons | Porta De Transistor Mos | Tecnologia Cmos |
Resumo O projeto tem como objetivo: a) Desenvolver um sistema de corrosão por plasma hídrido tipo RIE/ICP e desenvolver processo de corrosão de Si; b) Desenvolver processo e escrita direta em lâmina de Si com sistema de feixe de elétrons, usando o sistema ZBA-21 instalado no nosso laboratório; c) Desenvolver um processo de definição de linhas de Si-poli para porta de transitores MOS de dimensões sub-micrométricas (0.25 um); d) Desenvolver processo de fabricação de máscara de substrato de silício para litografia profunda por raios-X, para uso na linha de raio-X do anel do LNLS. O projeto é um projeto de pesquisa amplo que envolve o trabalho de uma equipe, sendo que a bolsista será responsável pelo trabalho de projeto, montagem e caracterização do sistema de corrosão por plasma e pela parte de estudo do processo de corrosão de Si. (AU) | |
| Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre a bolsa: | |
| Mais itensMenos itens | |
| TITULO | |
| Matéria(s) publicada(s) em Outras Mídias ( ): | |
| Mais itensMenos itens | |
| VEICULO: TITULO (DATA) | |
| VEICULO: TITULO (DATA) | |