Bolsa 98/04076-0 - Tecnologia de feixe de elétrons, Microeletrônica

Processo:	98/04076-0
Modalidade de apoio:	Bolsas no Exterior - Pesquisa
Vigência (Início):	18 de agosto de 1999
Vigência (Término):	17 de agosto de 2000
Área do conhecimento:	Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos

Pesquisador responsável:	Patrick Bernard Verdonck
Beneficiário:	Patrick Bernard Verdonck
Pesquisador Anfitrião:	Nicholas St. John Braithwaite

Instituição Sede:	Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Local de pesquisa:	Open University, Inglaterra

Assunto(s):	Tecnologia de feixe de elétrons Microeletrônica Plasma (estados da matéria) Caracterização estrutural Corrosão
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:	Caracterizacao \| Corrosao \| Feixe De Eletrons \| Microeletronica \| Micromecanica \| Plasma
Resumo As características (energia e densidade de elétrons e íons, potenciais de plasma e de eletrodos) de um plasma frio podem ser modificado injetando elétrons com densidade e energia controladas. Desta maneira é possível caracterizar melhor plasmas capacitivamente e indutivamente acoplados, e modificar as características de processos de corrosão por plasma. Neste trabalho pretendemos fazer estes tipos de caracterizações de plasmas, utilizando sondas eletrostáticas e espectrometria de emissão, dos dois tipos de plasma mencionados. Também verificaremos como a injeção de um feixe de elétrons possa modificar a corrosão de silício por um plasma de SF6. (AU)

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