Síntese e caracterização de filmes finos óxidos depositados a plasma

Resumo

Este plano de atividades prevê síntese e a caracterização morfológica e óptica de filmes finos baseados no óxido de zinco. A deposição dos filmes finos será feita através de técnicas a plasma ou PECVD sobre substratos transparentes na região do visível. A análise morfológica será realizada por microscopia de força atômica (AFM). Já o grau de transparência óptica dos filmes de óxido de zinco por medidas de transmitância. Os resultados de AFM e transparência serão correlacionados com as condições de crescimento, principalmente temperatura do substrato, potência e pressão da descarga elétrica e composição dos precursores.