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Otimização da litografia por feixes de elétrons para fabricação de guias de onda e cavidades óticas

Processo: 20/03661-1
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Vigência (Início): 01 de maio de 2020
Vigência (Término): 31 de dezembro de 2020
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física Geral
Pesquisador responsável:Felippe Alexandre Silva Barbosa
Beneficiário:Felipe Boechat Mazzi
Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Vinculado ao auxílio:18/03474-7 - Estados não-clássicos da luz em chips, AP.JP
Assunto(s):Óptica quântica   Tecnologia de feixe de elétrons   Litografia (gravura)   Informação quântica   Microfabricação   Processos de fabricação
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Fotônica Integrada | Informação Quântica | Microfabricação | Ótica Quântica | Fotônica Quântica Integrada

Resumo

A litografia por feixe de elétrons será parte central do processo de fabricação associado ao auxílio jovem pesquisador em centros emergentes original. Neste tipo de litografia, um feixe de elétrons é focalizado e varrido sobre a amostra, o que escreve um padrão no resiste (máscara de litografia). O controle e a otimização o desta etapa de fabricação e essencial para garantir a qualidade ótica dos guias de onda e cavidades. Iremos trabalhar nos processos de escrita para criar as máscaras em filmes finos de nitreto de silício (Si3N4) e niobato de lítio (LiNbO3) que serão usadas para fabricar os guias de onda e cavidades óticas.

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