Estudo de condutividade de nanofios de cobre para aplicações em linhas de transmissão em ondas milimétricas

Resumo

O elevado fluxo de informações e transferência de dados globais vem resultando em uma maior atenção à área de telecomunicações, principalmente na faixa de alta frequências (acima de 20 GHz). Em busca de maior desempenho e barateamento das operações, sobretudo em aplicações comerciais de ondas milimétricas (mmW), empresas do ramo concentram esforços no desenvolvimento de novas tecnologias. Para tanto, visto a evolução de circuitos ativos em semicondutores de metal-óxido complementar (CMOS), surge uma oportunidade para o desenvolvimento de sistemas mmW integrados de alta performance que, para viabilizar uma produção de baixo custo, pressupõe o uso de tecnologias heterogêneas para cada componente do sistema, sendo, portanto, necessário o uso de uma interconexão entre eles, denominada interposer. Nesse contexto, o projeto consiste na determinação das características do processo de crescimento de nanofios de cobre que otimizam a condutividade elétrica dos interposers desenvolvidos pelo Laboratório de Microeletrônica (LME). Além de um estudo detalhado dos parâmetros que influenciam o crescimento uniforme do cobre nos nanoporos, será feita uma correlação da condutividade dos nanofios com as propriedades de uma linha de transmissão de ondas lentas operando entre 30 GHz a 110 GHz. As etapas desse projeto consistirão na fabricação de máscaras para membranas onde serão crescidos nanofios de cobre por eletrodeposição, análise da qualidade e da uniformização desse crescimento e determinação dos parâmetros que otimizam a condutividade dos nanofios para comparação com resultados obtidos anteriormente.