Nanomateriais e filmes finos para aplicação em dispositivos optoeletrônicos

Resumo

O projeto consiste em viabilizar a aplicação de materiais nanoestruturados, como os óxidos metálicos e de grafeno, e os filmes finos funcionalizados em dispositivos optoeletrônicos. Serão obtidos óxidos metálicos, como TiO2, Nb2O5, ZnO e/ou óxido de grafeno, os quais serão caracterizados quanto aos seus parâmetros morfológicos e optoeletrônicos, para posterior imobilização de complexos metálicos de Re(I) e Ru(II). Além disso, este projeto será focado na obtenção e inovação de uma pasta de TiO2 mesoporoso para aplicação em fotoanodo de células sensibilizadas por corante (DSCs) e no desenvolvimento de camadas compactas de óxidos metálicos, que poderão ser depositadas a partir de diferentes técnicas, como, por exemplo, layer-by-layer. A morfologia dos filmes será caracterizada por espectroscopia de absorção UV-vis, perfilometria, microscopia eletrônica e/ou de força atômica. As propriedades elétricas e fotoeletroquímicas serão determinadas por curvas de corrente-potencial e espectroscopia de impedância. O desempenho dos filmes será avaliado em dispositivos de conversão de energia, mantendo o foco do projeto no desenvolvimento de materiais inovadores para a criação de dispositivos optoeletrônicos mais eficientes. (AU)