Taxa de sucesso, sobrevivência e falha de implantes: estudo transversal

Resumo

O objetivo do presente estudo será avaliar comparativamente in vivo a taxa de sucesso, sobrevivência e falha de implantes instalados ao longo de 3 anos. Todos os pacientes que receberam implantes entre 2010 e 2013 na clínica de Implantodontia do Departamento de Periodontia da Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto da Universidade de São Paulo serão incluídos nesse estudo. Os seguintes critérios serão avaliados: idade; sexo; presença de doença sistêmica; história de fumo; área em que o implante foi instalado; diâmetro e altura do implante; necessidade de cirurgia adicional; intervalo entre a primeira e a segunda cirurgia; tipo de prótese instalada; reabsorção óssea (determinado através de radiografias periapicais). A taxa de sucesso e sobrevivência dos implantes será analisada baseando-se nos critérios do Consenso de Pisa do Congresso Internacional de Implantodontistas Orais (ICOI), através dos seguintes parâmetros: dor; mobilidade; índice de placa (IP); índice de sangramento (IS); profundidade de sondagem (OS); sangramento à sondagem (SS) e exsudato. As medidas de IP, IS, PS e SS serão aferidas em quatro aspectos por implante: mesial, vestibular, distal e lingual/palatino. Para a avaliação da perda óssea radiográfica será realizada uma radiografia periapical convencional no momento da rechamada dos pacientes. As radiografias serão digitalizadas e analisadas utilizando o software Image Tool para verificar e determinar a distância linear resultante entre o ombro do implante e a crista óssea (OI-CO). A média do valor mesial e distal será utilizada como medida única para cada implante. A partir desta análise os implantes serão divididos nas seguintes categorias: perda óssea < 2 mm; 2-4 mm; > 4 mm, porém menor que a metade do corpo do implante; e maior que a metade do comprimento do implante. De acordo com esses critérios os implantes serão classificados como sucesso, sobrevivência satisfatória, sobrevivência comprometida ou falha. (AU)