Suporte e desenvolvimento de processos de materiais por plasmas frios operados em baixa pressão

Resumo

Este projeto de treinamento técnico contempla fundamentalmente o suporte e desenvolvimento de processos a plasma voltados para processamento de materiais tais como deposição de filmes finos de diamante tipo amorfo, DLC, carbeto de silício, SiC, e DLC contendo nanopartículas de prata ou dióxido de titânio, TiO2, de modo a obter propriedades adequadas para aplicações no setor de indústria eletrônica e aeroespacial. Assim, para o avanço dos estudos e da infraestrutura no laboratório NanotecPlasma do Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento da Univap é de suma importância a presença de um técnico capacitado para execução de tarefas como montagem, suporte e desenvolvimento de experimentos. O laboratório NanotecPlasma é recente e tem, desde o ano passado, procurado melhorar a infraestrutura existente de modo propiciar pesquisas de alto nível na área de Nanotecnologia e Processos a Plasmas. Com a aquisição dos equipamentos do projeto PRONEX (reator de deposição de deposição a vapor químico assistido a plasma, PECVD, e de deposição de camadas atômicas, ALD), será ainda mais necessário o apoio técnico para montagem e operação destes novos equipamentos. Ademais, o plano de trabalho da bolsa visa a inserção do aluno na área de tecnologia de vácuo, plasmas e recobrimento de superfícies. (AU)