Estudo do crescimento, cristalização e estrutura da superfície em filmes finos, multicamadas e nanoestruturas formadas pelo método de deposição de monocamadas atômicas

Resumo

Este projeto pretende estabelecer uma nova linha de pesquisa na formação e estudos estruturais de filmes finos e nanopartículas crescidas pelo método de Atomic Layer Deposition (ALD). Pretendemos nuclear um novo grupo de pesquisa em síntese de materiais que potencialmente se tornará referência nacional no uso desta técnica, ainda pouco explorada no estado de São Paulo e no Brasil. Em particular, estamos interessados na síntese de duas classes de materiais: i) óxidos de alta constante dielétrica e óxidos magnéticos e; ii) nitretos semicondutores. A busca por novos resultados em ciência básica e aplicada utilizando a técnica de ALD envolverá a construção de uma câmara para crescimento in-situ nas linhas de difração e absorção de raios-x, possibilitando o entendimento quantitativo das etapas de crescimento e cristalização de filmes finos e nanopartículas produzidas por este método. A possibilidade de crescer materiais por uma nova rota de síntese, a facilidade de operação, ausência de contaminação da câmara e o baixo custo de manutenção do reator de ALD serão cruciais para fomentar de maneira ampla a pesquisa interna em ciência dos materiais no Laboratório Nacional de Luz Síncrotron. (AU)